9, Academician Semenov Ave., Chernogolovka, Moscov region, 142432, Russia

«НИКА-SiC»: выращивание карбида кремния

Карбид кремний – востребованный широкозонный полупроводниковый материал в различных сферах промышленности. Его используют для создания деталей быстродействующей, устойчивой к радиационному излучению, силовой электроники. Объемные монокристаллы диаметром до 46 дюймов и высотой до 50мм можно выращивать на автоматизированной установке «НИКА-SiC». Принцип работы основан на усовершенствованном сублимационном методе Лели.

Карбид кремний – востребованный широкозонный полупроводниковый материал в различных сферах промышленности. Его используют для создания деталей быстродействующей, устойчивой к радиационному излучению, силовой электроники. Объемные монокристаллы диаметром до 46 дюймов и высотой до 50мм можно выращивать на автоматизированной установке «НИКА-SiC». Принцип работы основан на усовершенствованном сублимационном методе Лели.

Особенности оборудования для выращивания кристаллов кремния

Установка НИКА-SiC оснащена системой автоматического управления процессом выращивания. Сбор технологических данных осуществляет программный модуль, благодаря которому, риск получения бракованной продукции минимизирован.

Технические характеристики НИКА-SiC:

  • тип нагрева – индукционный;
  • температура сублимации max – до 2600 C;
  • частота генератора – 5-20 кГц;
  • максимальный диаметр кристалла – до 6 дюймов.

Узнайте больше об функциях устройства и его эксплуатации у производителя.

Производство монокристаллов кремния в Московской области

Компания «Ростокс-Н» предлагает заказать в Черноголовке искусственный сапфир и изделия из других материалов, а также оборудование для выращивания кристаллов. Уточнить подробности оформления заказа можно по телефону +7 (496) 527-35-91, +7 (496) 527 35 95+7 (496) 527 35 96 и электронной почте info@rostox-n.ru.

Максимальный диаметр кристалла
до 6”
Тип нагрева
индукционный
Максимальная температура сублимации
до 2600º С
Внутренний диаметр кварцевого реактора
320 мм
Внутренний диаметр индуктора
380 мм
Выходная мощность ВЧ генератора
от 0,1 до 80 кВт
Шаг изменения мощности
0,0015 кВт
Частота генератора
5-20 кГц
КПД генератора
не ниже 95%
Допустимое отклонение выходной мощности
± 0,05%
Давление инертного газа в камере
не более 1,5x105 Па
Каналы измерения вакуума в камере в диапазоне 10-1-1100 мбар
1 шт
Каналы измерения вакуума в камере в диапазоне 10-4 -1000 мбар
2 шт
Предельный вакуум в реакторе
5,0x10-4 Па
Количество линий подачи технологических газов
2 (Ar, N2)
Максимальный проток газов по Ar ( N )
до 5 н.л/мин
Диапазон автоматического поддержания рабочего давления в реакторе
5-50 Torr
Давление охлажденной воды
от 200 кПа до 250 кПа
Расход охлаждающей воды
не более 3 м3/час

News

23.12.2020

Welcome to visit our booth at the Optics-Expo 2015, November 25-26, 2015, Moscow, VDNH, pavilion 75

23.12.2020

Welcome you to visit our booth at the 8th specialized exhibition of laser, optical and optoelectronic technology Photonics. WORLD LASERS AND OPTICS.

23.12.2020

Improvement of technology of simultaneous growth of sapphire tapes in length 500, width 70, thickness of 2.2 mm is completed.